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       直讀光譜分析儀是應(yīng)用在冶煉和鑄造工藝方面的重要設(shè)備，除了儀器本身的性能外，對于儀器的養(yǎng)護(hù)，零部件的認(rèn)識，測量手法方式都有著重要的要求。

       直讀光譜分析儀的誤差主要來源在標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品的成分不均勻，組織狀態(tài)不一致，另外對于光譜性能不穩(wěn)定和樣品表面處理不當(dāng)，氬氣純度不夠都會(huì)產(chǎn)生。

       激發(fā)光源是光電類直讀光譜分析儀的重要組成單位，其給分析試樣提供蒸發(fā)、原子化或激發(fā)的能量。試樣的蒸發(fā)、原子化和激發(fā)之間無明顯界限，其過程幾乎同時(shí)進(jìn)行。目前常用的光源有兩類：一類是經(jīng)典光源包括電弧及火花光源，其中以高壓控波光源、低壓火花高速光源和高能預(yù)火花光源在冶金分析中得到廣泛應(yīng)用，一類是等離子體光源居多，在不同領(lǐng)域中得到普遍采用。

       光源激發(fā)條件的選擇，要根據(jù)分析對象經(jīng)過試驗(yàn)來決定。 對于不同的試樣在不同的光源下其預(yù)燃時(shí)間是不一樣的，這主要取決于試樣在火花放電時(shí)的蒸發(fā)過程，它不僅與光源的能量、放電氣氛密切有關(guān)以外，還與試樣組成、結(jié)構(gòu)狀態(tài)、夾雜物種類、大小等等密切有關(guān)。

直讀光譜儀的分析檢測方法

       在氬氣氣氛中的火花放電一般可以分為兩種狀態(tài)：濃縮放電和擴(kuò)散放電。當(dāng)放電是在金屬相上進(jìn)行時(shí)稱濃縮放電，當(dāng)放電是在非金屬相上進(jìn)行時(shí)稱擴(kuò)散放電。氬氣純度影響主要來源：

       1.在氬氣中放電時(shí)，氬氣壓力，氬氣流量及沖洗時(shí)間也均影響光電光譜分析的結(jié)果；

       2.氬氣的出入口管道或放電室的泄露是使放電過程中引入氧氣，引起氬氣不純的原因；

       3.樣品本身是使放電過程中引入氧氣的第三個(gè)來源（如夾雜物，氣泡和裂紋等）。